Röntgen-Photo­elektronen­spek­tro­skopie (XPS)

Mit der XPS-Analyse kann die chemische Zusammen­setzung der obersten 5‑10 nm einer Ober­fläche quan­ti­ta­tiv bestimmt werden. Alle Elemente ausser Wasser­stoff und Helium können zerstö­rungs­frei detek­tiert und ihre Oxi­da­tions- bzw. Bindungs­zustände ermittelt werden.

Das Verfahren basiert auf der Bestrah­lung der Probe mit Röntgen­strahlen, wodurch Elekt­ronen angeregt werden und aus­treten können. Ihre Anzahl und Energie liefern Infor­ma­tio­nen zur Zusammen­setzung und zu den Bindungs­zuständen. Die Nach­weis­grenze der Methode liegt, je nach Messzeit und Element, bei etwa 0.1‑0.3 at%, was rund 1‑3 ng/cm² entspricht.

Unser XPS-Gerät ist ausgerüstet mit einem grossen Proben­halter, einer monoc­hromati­schen AlKα Röntgenquelle, Argon-Ionen-Sputtering, Ladungs­neutra­lisator, einem hemi­sphä­rischen Analy­sator und einem 2D-Detektor, welcher die parallele Erfassung von Ele­ment­ver­tei­lungs­bildern mit einer lateralen Auf­lösung von bis zu 20 μm erlaubt. Dies stellt eine besondere Stärke dieses Instruments dar.